采用動態(tài)離心分離原理，確保研磨介質(zhì)與物料的無障礙分離，出料順暢，最小可使用0.03mm研磨介質(zhì)，實現(xiàn)100nm以下的物料研磨，可以達到納米化幾何尺寸的極限。在線咨詢應(yīng)用領(lǐng)域負(fù)極材料、納米材料、納米二氧化鈦、MLCC、噴墨、拋光材料等琥崧優(yōu)勢采用無篩網(wǎng)分離，出料順暢研磨粒徑分布窄且均勻研磨介質(zhì)最小可使用粒徑0.03mm解決“卡脖子”技術(shù)難題，實現(xiàn)100nm以下超細(xì)研磨
